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光刻胶涂覆

东方金荣提供独特的超声波喷涂技术用于半导体光刻胶涂覆,相比于旋涂、浸涂等传统涂覆工艺,其有着均匀度高、对微结构包裹性好、涂覆面积可控等优势。过去10年中,已充分证明利用超声喷涂技术进行的3D微结构表面光刻胶涂覆,其制备出的光刻胶涂层在微结构的包裹性和均匀度方面都显著高于传统旋涂工艺。东方金荣涂胶系统可用于包括硅片、玻璃、陶瓷、金属等材料的平面和3D结构基材表面涂覆,典型的光刻胶涂层应用包括晶圆、MEMs、镜头、微流控芯片、过滤器等等。超声喷涂是一种简单有效且经济稳定的光刻胶涂覆解决方案,东方金荣超声喷涂系统可良好的控制喷涂流量、涂覆速度和载料量,极低的载气流量确保了喷涂面积的精确性,并极大程度的避免的过喷问题,是传统空气喷涂的4倍以上原料利用率。

东方金荣凭借在应用超声波技术领域超过30年的行业经验为半导体光刻胶涂覆领域供了多种解决方案,其中桌面式超声波精密喷涂机UC320、UC330、UC340、立式超声波精密喷涂机UC360c、传送式自动超声波精密喷涂机PL360、PL600等系列超声波喷涂设备配合我司自主知识产权的各种超声波喷头可适用于研发、中式及量产等各个级别的半导体晶圆光刻胶涂覆生产。


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注意事项

典型应用

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